1.突出特點(diǎn)· 新型分離器，特殊的螺旋線設(shè)計(jì)（**產(chǎn)品）；· 使用0.05mm-1.0mm 研磨介質(zhì)；· 流量恒定、大流量出料、無堵塞、無漏珠。
2.應(yīng)用領(lǐng)域
1) Color paste / Color filter / TFT LCD ：R、G、B、Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級，透明度需超過90％，粘度控制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。
2) Ink-jet Inks：顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級，粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry：半導(dǎo)體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達(dá)納米級且能滿足無金屬離子析出要求。
4) TiOPc (optical contact)：應(yīng)用于雷射列表機(jī)光鼓上所涂布光導(dǎo)體，已研磨分散到納米級。
5) 納米級粉體研磨，如TiO2、ZrO2、Al2O3、ZnO、Clay、CaCO3、…，可分散研磨到30nm。
6) 納米級粉體分散。如將納米粉體分散到高分子，或?qū)⒓{米級粉體添加到塑膠﹑橡膠等進(jìn)行分散。
7) 醫(yī)藥達(dá)到納米級要求，且需能滿足FDA 要求。
8) 食品添加劑達(dá)到納米級之要求。如β胡蘿卜素…，需滿足GMP 要求。
9) 電子化學(xué)品達(dá)到納米級需求，且需能滿足無金屬離子析出問題。10)其他特種軍工，航空納米材料。
